ID: 4201510
아이덴티티 : 창술사
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수평: 1
존: 수행의 방
정황:
수행 가능 클래스 : 창술사
목표:
<$HOTKEY_EMOTICON Action_Identity 0 0 -10 0 0 -10/>키를 사용하여
- 집중 스탠스로 변경하여 스킬 사용 (0/4)
<$HOTKEY_EMOTICON Action_Identity 0 0 -10 0 0 -10/>키를 사용하여
- 난무 스탠스로 변경하여 스킬 사용 (0/4)
- 아이덴티티 : 창술사 성공
내용:
창술사는 듀얼 게이지를 모아
<$HOTKEY_EMOTICON Action_Identity 0 0 -10 0 0 -10/>키를 통해 다수의 적을 상대하기 용이한 난무 스탠스와 순간적으로 높은 피해를 줄 수 있는 집중 스탠스 중 선택할 수 있다.
스탠스를 변경하면 보유한 듀얼 게이지를 소모, 단계에 따라 효과가 향상된다.
듀얼 게이지는 공격 적중 시 또는 시간에 따라 충전된다.
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